第847章 【新城微电子半导体】（2/2）

第四代的arf光刻机与第三代krf原理一样，但光源升级，采用193nm光源的光刻机，这两种称之为duv光刻机。

而抬积电提出来用水作介质，就跳过157nm，变成143nm了。

而第六代euv光刻机，采用的则是13.5纳米的极紫外线光源了，这种光刻机目前全世界都没有搞出来，asml也一样，针对的事7纳米制程级别的芯片制造，而当前世界最先进的制程是在14纳米这一阶段。

国产光刻机对标世界最先进水平其实还有很长的一段距离要走的，可是今年上半年以来，大基金的出现让国际上的那些厂商感觉到了“不对味儿”，他们一开始就尝试要渗透、孵化大基金的管理层。

像g线、i线国内都有了，krf也有了，就是新微半导体突破的。

这三个团队分别攻关第四代arf光刻机，第五代arfi光刻机，以及第六代极紫外光euv光刻机。

“呵呵……”

方鸿看到这条新闻不禁笑了，自顾自地说道：“看来，多少还是有点急眼了啊，急眼就对了。”

尼康、佳能很傲慢，不理抬积电，那时候asml只是个小厂，也敢于一试，最后就搏出了asml的未来，研发出了arfi浸润式光刻机，然后打得尼康、佳能一败涂地，成就了今天的行业地位。

到了第二天一早，方鸿起来瞅了瞅早间资讯，看到了一条与光刻机，乃至和新微半导体设备公司有关的新闻。

光线在经过水时，会有折射，所以虽然arfi光刻机采用193nm波长光源，经水折射时，等效于134nm波长的光源，所以这种光刻机，叫做浸润式光刻机。

目前新微半导体同时在搞三代光刻机，因为光刻机的研发生产并不需要由低到高、循序渐进，是可以平行研发的，所以新微半导体直接起了三个团队并行研发。

而且，眼下板块内超过500亿市值的半导体公司都是只手可数，这在一定程度上也反应了国产半导体的窘境。

而第五代arfi光刻机，采用的也是193nm光源，但这种又与arf不一样，之前所有的光刻机其介质采用的是空气，但到了arfi光刻机时，采用的是水。

这也是星宇科技的产品未来走向国际化的一大重要的卖点。

方鸿与他结束通话之后，顺手便在电脑上打开了行情软件，然后输入了一个代码瞅了眼，其所对应的公司叫“新微半导体”，这家企业是群星系旗下的子公司，也是此前方鸿拟定的20家新上市的子公司之一。

可以确定的，整合国内光刻机产业链的新微半导体，其技术水平就是代表了目前国产技术的最高水平，现在是把所有的相关资源都砸在了新微半导体身上，由该公司对光刻机展开全力攻克任务。

目前在攻克的arf光刻机也已经快要突破了，并且正在全力死磕arfi光刻机，同时对于极紫外光刻euv的研究也有团队在展开论证。

各代的光刻机开发团队并行展开，同时也相互交流。

现在的新微半导体是要钱有人给钱，要人才方鸿这边到处给他找，而且因为老美对技术、元件等进行了封锁，在很大程度上非但没有击垮，反而因为外部的压力促使内部变得更加团结一致死磕。

……