第325章 光刻厂的进度（2/2）

天气来到了盛夏。

即便是这片身处龙国东北区域的土地，也变得炎热起来。

这十几天里。

江野脑海中【知识殿堂】內的一千多份资料早已经换了一轮。

处理的项目简报也有过百份之多。

而在这个过程中，他也逐渐搞懂了关於光刻厂项目的详细细节。

……

光刻厂，本质上是將一台精密的光刻机进行宏观化、分布化、巨型化的建筑群级系统。

在这个系统內部一共有四个核心的系统。

光源系统，阵列系统，测量和控制系统，环境和支撑系统。

这四个系统並非是相互独立的。

其中很多技术和理论都是相互交叉你中有我的关係，这也是为什么光刻厂项目的部门名称都是光学xx之类的。

其中难度最高也是最为复杂的，是阵列系统。

江野之前所了解的光的四重折射难题，就是阵列系统中的一个子课题。

而之前光刻厂那座发生爆炸事故，將寧未未炸伤的建筑。

也是一个由透镜组成的巨大光学元件阵列。

在光刻厂项目內部被称为透镜森林。

光刻厂的项目开始於七年前，实际上，在雷多来访龙国之前，整个项目几乎已经接近百分之百的成功了。

虽然还达不到大规模投產的水准。

但是小规模地试產晶片，已经是毫无阻碍。

只不过隨著灯塔国串通內部间谍的一场阴谋，让透镜森林原地蒸发，所有人的工作功亏一簣。

而更要命的是。

在这个过程中，光刻厂项目也发现了原本採用的透镜组有致命缺点——

用来调整光学元器件精度的纳米级促动器对於参考光的反馈精度不足。

因此才会被別人稍微一动参数，就直接引动了不可逆的光压爆炸。

这不是技术力高低的问题。

而是在当前的现代科学进程，人类就没有捕获该等级反馈光精度的能力！

无论是龙国，灯塔国还是任何发达国家……甚至可预见的几十年內，都不可能有解决方案。

因此，整个项目不得不紧急转向，来研究新的阵列系统方案。

好消息是，这个新方案並非从零开始，只是在原方案的系统上进行改动，很多地方都只差临门一脚就能成功。

坏消息是。

这个临门一脚，也许只需要某个天才科学家一拍脑门，想出一个討巧的解决方案，整个系统立刻就可以捋顺，明天下午就能解决。

但这种机率等同於零。

目前的情况是。

a提出了a变通方案，b部门根据a方案来进行適配，適配完发现原本的c方案也需要更改，等更改完，def等方案又开始出现衝突。

总之，所有人都在原地不断绕圈圈。

“江野专员。”

旁边一道声音打断了江野的沉思。