第600章 有人背著他们坐火箭进步了！（1/2）

光刻机是製造晶片的核心设备，其工作原理就像是“投影”和『曝光』，通过精密的光学系统和控制技术將电路图案转移到硅片上。

陈望想要大规模製造晶片，那么光刻机就是绕不过去的门槛。

让陈望惊喜的是这时候国內的光刻机发展並没有他想像中的那么落后，虽然与国外先进水平相比肯定有一定的差距，但却已经能独立生產製造光刻机。

这个消息还是四机部阮司长告诉陈望的，就在前两个月海市光学机械厂成功研製出了华国的第一台接触式光刻机jkg-3型。

而且这台光刻机从光学系统、精密机械、对准技术到光刻胶等配套材料，华国都实现了自主研发，是一条完全独立、不受外部制约的技术路线。

陈望当时听到这里的时候有些奇怪，在决定研发光刻机的时候他查阅过小才给的国外光刻机发展的公开资料。

光刻机如果按照曝光方式区分，目前为止光刻机的发展可分为接触式、接近式、投影式三种。

现在国际上最先进的方向是投影式光刻机，但他们国家在接近式光刻机上也有了一定的研究成果。

所以他们国家的光刻机製造水平虽然不是一流，但也算得上是二流水平。

而且就单从解析度上来说差距就要更小一些了，解析度是指光刻机能够在晶圆上清晰区分並形成的最小物理尺寸，也是晶片的最小线宽或者最小特徵尺寸。

解析度的数值越小光刻精度越高，现在解析度的数值一般都是以毫米为单位，但陈望上辈子死的时候已经以纳米为单位了。

从小才提供的资料来看，目前国际上最先进的晶片就是3微米製程的，但他们也已经能制出5-10微米的晶片。

这种差距也就五六年的差距，那怎么越发展差距还越大了呢，以至於到了八九十年代已经有了快10年的差距！

所以陈望还是挺奇怪的，不过现在不是分析原因的时候，既然国內已经有了自主研发的接触式光刻机，那么他只要在这基础上改进成接近式光刻机就行了。

接近式光刻机的解析度极限就是3左右微米，这用来製造蜂窝移动通信的晶片组已经够了。

至於投影式光刻机。

陈望看了一眼已经设计好的图纸和列举出来的国內目前完全不能提供的零配件.......算了，人不能一口吃成一个大胖子。

这种需要调动国家全部工业和科研资源才能攻克的难题仅凭他和四机部合作肯定是没办法的，他还是先在接触式的基础上把接近式光刻机先搞出来再说吧。

至少这个在现有的工业基础上还能实现。

所以陈望又把设计好的投影式光刻机放到一旁，开始进一步研发接近式光刻机。

而就在陈望闷头研发的时候，首都永光电子厂的第四车间內灯火通明，一群穿著白色质防尘服，带著布帽的技术员正井然有序的忙碌著。

厂房是苏式风格，高大宽敞，水泥地涂了绿色的油漆，搭配白色的石灰墙让整个车间看来乾净整洁，一看就是进行精密操作的重要车间。

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不过也的確如此，第四车间正是永光电子厂的光刻车间，閒杂人一律不准靠近。